式光刻机继续发展作为备份的技术路线，因为这样一旦浸润式光刻机技术路线遇到阻碍，我们还有第二个选项。
这是非常合理的要求，站在当时那个视角来看，没人能保证浸润式绝对没有问题，工艺制程的发展能够一马平川，毫无阻碍。
结果就是ASML在该会议上痛批这帮芯片制造厂商的技术代表们没有远见，观点的参考价值极其有限。
ASML组织了这次技术研讨会，研讨会后却完全没有用会议的讨论结果，在背后资本主导下，尼康和佳能的157nm干式光刻机失去了整个西方资本主导下芯片代工的市场。
小松正志和他的小松株式会社也在这过程中消失在行业内，再也没有了任何消息。
“大概率是用的浸润法，也就是在镜头和硅片之间加液体，他们光刻机条线的负责人是林本坚博士，他一直坚持浸润法是半导体工艺突破的关键。
只是不知道他们是如何绕过浸润法的困难。”佐藤博人说，他是EUVA在御殿场市的研发团队的负责人。
在光刻机失利后，佐藤博人同样经历了很长一段时间的失落和沉寂，和小松正志比起来，他最后还是走出来了，甚至换了个研究方向重新活跃在学术界。
此时意气风发指点新芯光刻机技术的他们，不会知道这个未来对霓虹的光刻机产业只会更加残酷。
尼康和佳能这次连残羹冷炙都吃不到了。
“我也好奇，因为新芯最早是买的我们的光刻机技术，他们如果要采用浸润法的话，需要完全重新构建整个物镜光路。
这可不是一个小工作。
这需要耗费大量的人力物力。”小松正志说。
作为光源制造商，他很清楚，尼康的技术关键，要想采用浸润式有太多困难了。
最大的困难就是物镜光路的改造，尼康的技术最后一块物镜是曲面的，曲面镜片和浸润式存在天然的不兼容。
而ASML的193nm光刻机最后一片镜片是平的，ASML的物镜系统可以无缝对接浸没式系统。
佐藤博人说：“我每次在IEEE的光学大会上和林博士聊，他对光刻机领域如何利用光源非常精通。
想必在他主导下，加上新芯的人才储备和资源投入，重构整个物镜光路是完全可行的技术路线。”
“不，不是因为林，新芯能改造我们的物镜光路，是因为有蔡司的全力支持。”杰夫·怀特说，他是尼康新上任的CEO，不知道什么时候坐到了佐藤和小松正志的旁边。
小松正志和佐藤博人都连忙和杰夫·怀特打招呼。
简单的寒暄后，杰夫·怀特说：“虽然不想承认，但是新芯在光刻机领域的研发速度远超我们的预计。
其中新芯自身从尼康、佳能挖走大量研发人员是原因之一，他们获得了蔡司的全力
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